독보적 PIC 원천기술, LioniX International의 TriPleX™

광도파로란 PIC에서 빛(레이저)의 통로

PIC의 광도파로(Optical WaveGuide)는 빛의 굴절률을 활용하여 매질을 따라 빛이 이동하는 통로입니다.


PIC 주요기술

PIC를 구현하는데 여러 반도체성질의 물질들을 사용하게 됩니다.
그 중 Multi-projet wafer(MPW)에 구현이 가능한 물질은 아래 세가지로 압축됩니다.

위 세가지 물질을 이용하여 PIC를 구현하는데, 단일 기술로 구현하거나 서로의 장점을 결합하여 이용하기도 합니다.


TriPleX™ 정의 및 강점


•TriPleX™는 SiO₂ / Si₃N₄ / SiO₂ 3층 구조
•Si₃N₄와 SiO₂의 차이를 이용하여 빛의 손실 최소화
•TriPleX™ InP 또는 SOI보다 전파 손실이 적어 복잡한 회로구현이 가능
•TriPleX™ 는 CMOS공정과 호환되며, InP와 효율적 커플링 가능한 강점
•TriPleX™는 가시광선 영역을 포함한 400nm 에서 2350nm까지의 넓은 파장범위에서 사용 가능하여 다양한 분야에 활용가능

[1 = end-fire coupling (low reflection); 2 = vertical coupling (medium reflection)]

[Advanced Optical Technologies. Volume 4, Issue 2, Pages 189–207]

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